SAMPLEM4M是一款专为同步辐射XAFS实验设计的软件,用于计算溶液样本的最佳厚度和粉末样本的最佳重量的程序,并帮助用户决定做XAFS实验时样品应使用透射还是荧光模式。该软件由日本高能加速器研究机构(KEK, PF)的Nomura 教授在1992 年 3 月编写的原始程序。
下载地址:https://pfxafs.kek.jp/
该软件不需要安装,下载后可以直接打开使用。
下面以C6CoFeK2N6为例对界面进行介绍。
1.顶部“Maximum Number of Elements”填元素数,如C6CoFeK2N6有五种元素,在这里就填5。
2.在左侧填入元素及元素摩尔比,右边的蓝色按钮是要计算的元素,如果要计算N元素,可以将按钮选到N元素处。
3.右侧选中进行实验的吸收边,Fe是计算K边。
4.在右侧选中样品类型(未知密度、需求称重压片选“powder”,适用于通常的压片实验;已知密度、需求合适厚度选“solution”,适用于液体或薄膜样品)。
以上图“powder”为例,填入压片选用模具的直径(10mm),也可以在“optional”中填入预期或已知的数量(powder为mg,“solution”为mm,设定值在左侧下方results 下的最后两行中)。
5. 点击“calculate”按钮,结果将在“Result”部分显示。特别关注第三行的分析,我们固定跳高(Delta muT,即前后吸收系数的差值)为1。在XAFS实验的透射模式下,理想的跳高范围是0.6到1.2,这样可以确保实验效果最佳。
以当前样品为例,当样品质量设定为25mg和40mg时,计算得出的跳高值分别为1.84和2.95,这远远超出了合理的范围。因此,需要重新调整跳高值。当将样品质量调整至可选的10mg和15mg时,对应的跳高值分别为0.73和1.01,均在推荐范围内,其中13.25mg为最佳样品质量。
从第三行High MuT 观察到此时的值为2.167,意味着X射线经过样品后光强相对于原来光强衰减了e2.167。透射模式下,通常前电离室会吸收 20%的光,后电离室吸收的光强为入射光强I0×80%×High MuT,由于电离室探测得到的光强信号为弱电流信号,通过外部的弱电流放大器将电流放大后读出。
通常入射光强引起的电流在无样品时可以达到10-6,弱电流放大器有最大放大倍数的限制,目前 BSRF 推荐使用最大为10-9,其线性工作区在 1-10之间,即电流信号不能低于10-9,也就意味着样品对光强的吸收不能大于 103(约等于e8)。
当出现以下两种情况时,建议采用荧光模式。
1.当跳高值设为0.5,且High MuT大于8时,推荐采用荧光模式进行检测。
2.在特殊情况下(样品直径为10mm,样品量超过100mg),如果跳高无法达到0.5且High MuT远小于8,也建议采用荧光模式进行检测。
注意:以上建议适用于BSRF。在其他光源设施进行检测时,请咨询线站人员以确定电离室放大倍数和最大放大倍数的适用性。
1、高浓度样品
在处理高浓度样品时,由于其较大的跳高值,我们通常会采用抹胶带法来确保样品的均匀分布。而对于那些样品量较少的情况,压片法则是一个更为合适的选择。
2、低浓度样品
对于低浓度样品,由于其跳高值相对较小,我们通常采用荧光法来进行测量。
3、高背底样品
虽然此类样品浓度为5%以上,但是由于元素造成的高背底,使得实验变得困难,根据HighMuT判定是透射还是荧光。
4、薄膜样品
薄膜样品的厚度和密度通常是已知的。可以利用“solution”计算,来判定透射或荧光模式。可以看到需要33μm才可以进行透射,按跳高为0.6计算,需要约20μm 才能得到较好的XAFS 数据。
5、溶液样品
计算1mol/L的CuCl2O55.5H111溶液,该样品可以进行透射实验,样品池的厚度可以控制在0.646mm。